經(jīng)過(guò)科學(xué)家們的研究，單層的單晶石墨烯在不久的將來(lái)或?qū)⒊蔀槌叻直媛释干潆婄R成像和光學(xué)設(shè)備的材料。

　　研究團(tuán)隊(duì)將銅箔被石墨烯薄膜所覆蓋，改進(jìn)了化學(xué)氣相沉積(CVD)生長(zhǎng)方法。如此一來(lái)銅箔上的所有碳雜質(zhì)就被消除。單層石墨烯薄膜上被留下了平行“褶皺”，褶皺之間的區(qū)域制造集成高性能器件。使得該器件具有很高的電子遷移率和空穴遷移率。

　　單層石墨烯，指由一層以苯環(huán)結(jié)構(gòu)周期性緊密堆積的碳原子構(gòu)成的一種二維碳材料。

　　石墨烯具有優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、力學(xué)特性，在材料學(xué)、微納加工、能源、生物醫(yī)學(xué)和藥物傳遞等方面具有重要的應(yīng)用前景。

　　化學(xué)氣相沉積(CVD)生長(zhǎng)方法

　　將單層石墨烯在Ir表面上生成，通過(guò)進(jìn)一步研究可知，這種石墨烯結(jié)構(gòu)可以跨越金屬臺(tái)階，連續(xù)性的和微米尺度的單層碳結(jié)構(gòu)逐漸在Ir表面上形成。

　　毫米量級(jí)的單晶石墨烯是利用表面偏析的方法得到的。厘米量級(jí)的石墨烯和在多晶Ni薄膜上外延生長(zhǎng)石墨烯是由部分學(xué)者發(fā)現(xiàn)的，在1000℃下加熱300納米厚的Ni 膜表面，同時(shí)在CH4氣氛中進(jìn)行暴露，經(jīng)過(guò)一段時(shí)間的反應(yīng)后，大面積的少數(shù)層石墨烯薄膜會(huì)在金屬表面形成。

　　金屬箔的種類有赤金、銀箔、銅箔和鋁箔幾種，銅箔具有低表面氧氣特性，可以附著與各種不同基材，如金屬，絕緣材料等，擁有較寬的溫度使用范圍。主要應(yīng)用于電磁屏蔽及抗靜電，將導(dǎo)電銅箔置于襯底面，結(jié)合金屬基材，具有優(yōu)良的導(dǎo)通性，并提供電磁屏蔽的效果。可分為：自粘銅箔、雙導(dǎo)銅箔、單導(dǎo)銅箔等 。

　　電子級(jí)銅箔(純度99.7%以上，厚度5um-105um)是電子工業(yè)的基礎(chǔ)材料之一電子信息產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，電子級(jí)銅箔的使用量越來(lái)越大，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于工業(yè)用計(jì)算器、通訊設(shè)備、QA設(shè)備、鋰離子蓄電池，民用電視機(jī)、錄像機(jī)、CD播放機(jī)、復(fù)印機(jī)、電話、冷暖空調(diào)、汽車用電子部件、游戲機(jī)等。國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)對(duì)電子級(jí)銅箔，尤其是高性能電子級(jí)銅箔的需求日益增加。有關(guān)專業(yè)機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)，到2015年，中國(guó)電子級(jí)銅箔國(guó)內(nèi)需求量將達(dá)到30萬(wàn)噸，中國(guó)將成為世界印刷電路板和銅箔基地的最大制造地，電子級(jí)銅箔尤其是高性能箔市場(chǎng)看好。